อะไรคือวิธีการปรับปรุงการเคลือบ PVD อนุภาคขนาดใหญ่?

วิธีการสแต็กเฟสแบบสแต็กทางกายภาพเป็นวิธีการหลักสำหรับการเตรียมการเคลือบ PVD รวมถึงการเคลือบสูญญากาศการสปัตเตอร์แมกนีตรอนและการชุบไอออนอาร์คซึ่งเมื่อการชุบไอออนถูกใช้เพื่อเตรียมการเคลือบ PVD อย่างไรก็ตามการเคลือบ PVD นี้มีมลพิษของอนุภาคขนาดใหญ่ซึ่งนำไปสู่ปัญหาต่าง ๆ เช่นลักษณะการเคลือบแบบคร่าวๆการเพิ่มความพรุนและฟังก์ชั่นการเคลือบที่ไม่เสถียรซึ่งส่งผลต่อการใช้ลูกค้า นี่คือวิธีการปรับปรุงการเคลือบ PVD ด้วยอนุภาคขนาดใหญ่

1. การแนะนำองค์ประกอบของโลกหายาก

การแนะนำองค์ประกอบที่หายากในเป้าหมายแคโทดและการเคลือบ PVD เพื่อลดอนุภาคชุบไอออนและปรับปรุงความหนาแน่นของการเคลือบและเพื่อปรับปรุงคุณสมบัติทางกายภาพและเชิงกลและคุณสมบัติอุณหภูมิสูงของการเคลือบผ่านกลไกการดัดแปลงโลกที่หายาก Rare Earth CE มีผลกระทบที่ชัดเจนในการลดหยดน้ำและการเคลือบ PVD ที่แก้ไขโดย Rare Earth ไม่เพียง แต่มีความหนาแน่นหยดเล็ก ๆ แต่ยังมีหยดน้ำขนาดใหญ่น้อยลง เหตุผลในการปรับปรุงสภาพอนุภาคการเคลือบของ Earth Earth CE ควรเกี่ยวข้องโดยตรงกับคุณภาพโลหะของเป้าหมายความก้าวหน้าของโลกหายาก

องค์ประกอบของหายาก Earth ที่ใช้กันอย่างแพร่หลายคือกระบวนการโลหะของ CE สำหรับการกำจัด degassing, desulfurizing และการทำให้วัสดุโลหะแข็งขึ้น คุณภาพและการทำงานของวัสดุของวัสดุอาจเพิ่มขึ้นโดยการแนะนำองค์ประกอบเจือจางที่เหมาะสมให้กับเป้าหมาย มีรูขุมขนเพียงไม่กี่องค์ประกอบที่เป็นเนื้อเดียวกันและเม็ดละเอียดของวัสดุเป้าหมายคุณภาพสูงช่วยในการปรับแต่งอนุภาคที่ผลิตจากแคโทด มันอาจลดความเป็นไปได้ของการกระจายตัวของวัสดุและการสาดในพื้นที่ส่วนโค้งของแคโทดสปอต micromelt สระว่ายน้ำที่เกิดจากแรงดันสูงที่เกิดจากการขยายตัวของก๊าซอย่างฉับพลันในรูขุมขนปิดที่อุณหภูมิสูง โดยการหลีกเลี่ยงหรือบรรเทาการล่มสลายและการบินของวัสดุที่ถูกผูกมัดอย่างอ่อนซึ่งเกิดจากสนามไฟฟ้าบางส่วนหรือความเครียดเทอร์โมไลซ์ติกการจัดเรียงเป้าหมายอาจช่วยลดการสร้างอนุภาคขนาดใหญ่ นอกเหนือจาก CE องค์ประกอบของโลกหายากเช่น y หรือ la มีอิทธิพลเทียบเคียงได้

2. ระบบแม่เหล็กไฟฟ้าใหม่

ทักษะนี้ได้รับการพิจารณาจากการออกแบบเป้าหมายแคโทดที่ได้รับการปรับปรุงและเลนส์พลาสมา ความคิดคือการออกแบบโครงสร้างสนามแม่เหล็กใหม่ทั้งภายในและภายนอกเป้าหมายรวมถึงขดลวดแม่เหล็กไฟฟ้าพิเศษและแม่เหล็กถาวรที่มีโครงสร้างเฉพาะเพื่อให้เป็นระบบสนามแม่เหล็กโค้งบนเป้าหมายแคโทดเพื่อควบคุมและควบคุมการวิ่งของจุดอาร์คแคโทด

3. เพิ่มแผ่นกั้นลงในอุปกรณ์

การวิเคราะห์พบว่าการกระจายตัวของอนุภาคขนาดใหญ่อยู่ในภูมิภาคที่มุม 60 องศาไปยังพื้นผิวของเป้าหมายอาร์ค ดังนั้นจึงอาจวางแผ่นกั้นไว้ที่ด้านหน้าของเป้าหมายอาร์คเพื่อลดระดับมลพิษของชั้นอนุภาคขนาดใหญ่ ในขณะที่ขนาดของอนุภาคขนาดใหญ่มีขนาดเล็กกว่า 2 μmความหนาแน่นของอนุภาคขนาดใหญ่ลดลงจาก 2.3 x 105\/mm2 เป็น 1.4 x 103\/mm2 โดยไม่มีแผ่นกั้นไม่เปลี่ยนแปลงอย่างมาก แต่เมื่อวางแผ่นกั้นแล้ววัตถุประสงค์ของการเคลือบ PVD จะได้รับความทุกข์ทรมานนอกเหนือจากการลดอัตราการสะสม

4. ทักษะแคโทดกลวง

ในการเคลือบ PVD การชุบไอออนอาร์คลำแสงอิเล็กตรอนที่ปล่อยออกมาโดยแคโทดกลวงได้รับการแนะนำเพื่อลดขนาดอนุภาคขนาดใหญ่ของการเคลือบที่เตรียมไว้ แต่วิธีนี้ต้องใช้อุปกรณ์แคโทดกลวงในอุปกรณ์ชุบไอออนทั่วไป

5. ตัวกรองแม่เหล็กอาร์ค

วิธีการแนะนำพลาสมาลงในห้องสะสมโดยใช้ตัวกรองแม่เหล็กอาร์คเพื่อแยกอนุภาคขนาดใหญ่ออกจากพลาสมาได้รับผลที่ดี แต่อัตราการสะสมของวิธีนี้ต่ำกว่าการชุบไอออนอาร์คสามัญ

ข้างต้นคือการแนะนำวิธีการปรับปรุงอนุภาคขนาดใหญ่ของการเคลือบ PVD ในการเตรียมการเคลือบ PVD คุณสามารถอ้างถึงห้าวิธีข้างต้นเพื่อให้แน่ใจว่าโครงสร้างพื้นผิวการเคลือบนั้นดีรูพรุนต่ำและคุณสมบัติมีความเสถียร